Ảnh hưởng của thời gian xử lý nhiệt đến cấu trúc và độ bền oxy hóa của lớp phủ Ni-W-SiC điện hóa xung

( 0 đánh giá )
Miễn phí

Kéo dài thời gian xử lý nhiệt từ 1 đến 5 giờ làm tăng độ bền oxy hóa của lớp phủ Ni-W-SiC. Phân tích XRD cho thấy sự hình thành các pha bảo vệ như Cr₂O₃, Ni₂SiO₄ và Cr₃Si, giúp ngăn chặn sự bong tróc lớp oxit. Ở thời gian xử lý dài hơn, lớp phủ có cấu trúc ổn định hơn và ít xuất hiện vết nứt. Kết quả SEM và Raman xác nhận sự phân bố đồng đều của SiC và sự tiến hóa pha theo thời gian. Nghiên cứu cho thấy thời gian xử lý nhiệt là yếu tố quan trọng ảnh hưởng đến độ bền oxy hóa của lớp phủ kim loại nền.