Tính chất hấp thụ vi sóng hiệu suất cao của lớp phủ Ti₃SiC₂/Al₂O₃ chế tạo bằng phương pháp phun plasma

( 0 đánh giá )
Miễn phí

Lớp phủ Ti₃SiC₂/Al₂O₃ được chế tạo bằng phun plasma có cấu trúc đặc, ít lỗ rỗng và phân bố đồng đều. Phân tích XRD cho thấy sự hình thành các pha mới do phân hủy Ti₃SiC₂. Độ điện môi phức tăng theo hàm lượng Ti₃SiC₂, đạt giá trị hấp thụ tối ưu tại 20 wt% với độ dày 1.3 mm. Lớp phủ cho thấy khả năng hấp thụ vi sóng mạnh trong dải X-band. Kiểm tra mài mòn bằng phương pháp cào điểm đơn cho thấy hiện tượng nứt giòn và bong hạt, phản ánh đặc tính cơ học của lớp phủ.