Chế tạo lớp phủ silicat siêu ưa nước bằng phương pháp sol-gel cho lớp phủ chống phản xạ băng thông rộng hai bước sóng

( 0 đánh giá )
Miễn phí

Nghiên cứu đề xuất phương pháp sol-gel đơn giản và tiết kiệm để chế tạo lớp phủ SiO₂ siêu ưa nước với chiết suất cực thấp (từ 1.22 xuống 1.11) thông qua xử lý HF. Lớp phủ hai lớp gồm lớp dưới có chiết suất 1.29 và lớp trên 1.13 đạt độ truyền sáng 99.95% tại 532 nm và 100.00% tại 1064 nm. Cấu trúc hạt chuỗi và độ xốp cao giúp giảm chiết suất và tăng tính siêu ưa nước. Lớp phủ còn có khả năng chống mờ và tự làm sạch, phù hợp cho hệ thống laser công suất cao. Các đặc tính quang học, hình thái bề mặt và khả năng thấm nước được phân tích chi tiết.